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      6. 功率MOSFET體二極管反向恢復特性了解
        • 發布時間:2021-02-02 17:02:51
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        功率MOSFET體二極管反向恢復特性了解
        半橋、全橋和LLC的電源系統以及電機控制系統的主功率MOSFET、同步Buck變換器的續流開關管、以及次級同步整流開關管,其體內寄生的二極管都會經歷反向電流恢復的過程。功率MOSFET的體二極管的反向恢復性能和快恢復二極管及肖特基二極管相比,其反向恢復速度要低很多,反向恢復電荷也要大很多,因此反向恢復的特性較差。這樣,導致二極管的開關損耗增加,降低系統的效率,同時,也會產生較高的振鈴,影響功率MOSFET的安全工作 。功率MOSFET數據表中,通常給出了一定條件下的Qrr和反向恢復的時間,并沒有給出和實際應用相關的、在不同的起始電流和不同的電流下降斜率下,對應的反向恢復特性,本文就討論這些問題并做詳細的分析。
        MOSFET的結構及反向恢復波形分析
        溝槽Trench型N溝道增強型功率MOSFET的結構如圖1所示,在N-epi外延層上擴散形成P基區,然后通過刻蝕技術形成深度超過P基區的溝槽,在溝槽壁上熱氧化生成柵氧化層,再用多晶硅填充溝槽,利用自對準工藝形成N+源區,背面的N+substrate為漏區,在柵極加上一定正電壓后,溝槽壁側的P基區反型,形成垂直溝道。由圖1中的結構可以看到,P基區和N-epi形成了一個PN結,即MOSFET的寄生體二極管。
        二極管
        圖1 MOSFET內部結構
        二極管
        圖2 反向恢復波形
        當體二極管外加正向電壓VF時,正向電壓削弱了PN結的內電場,漂移運動被削弱,擴散運動被增強,擴散和漂移的動態平衡被破壞。結果造成P區的空穴(多子)流向N區,N區的電子(多子)流向P區,如圖1中箭頭所示。進入P區的電子和進入N區的空穴分別成為該區的少子。因此,在P區和N區的少子比無外加電壓時多,這些多出來的少子稱為非平衡少子。這些非平衡少子,依靠積累時濃度差在N區和P區進行擴散。空穴在N區擴散過程中,同N區中的多子電子相遇而復合,距離PN結邊界越遠,復合掉的空穴就越多。通常把正向導通時,非平衡少數載流子積累的現象叫做電荷存儲效應。
        當體二極管施加反向電壓時,P區存儲的電子和N區存儲的空穴不會馬上消失,它們將通過兩個途徑逐漸減少:
        a.在反向電場作用下,P區電子被拉回N區,N區空穴被拉回P區,形成反向漂移電流;
        b.與多數載流子復合。
        通過圖2可以很好地說明整個反向恢復的過程。
        a.T0~T1階段,PN結處于正向偏置,即勢壘區仍然很窄,PN結的電阻很小,二極管的正向電流以一固定的di/dt逐漸減小,di/dt的大小由外電路決定;
        b.T1~T2階段,二極管的存儲電荷在反向電壓的作用下開始掃出,但PN結仍未形成耗盡層,反向電流由掃出的過量電荷維持。因此二極管不能承受反向電壓,電流仍以di/dt速率下降;
        c.T2~T3階段,PN結處等離子濃度衰減為0,即在PN結處形成耗盡層,PN結開始承受反向電壓。由于二極管反向電壓的上升,導致了反向恢復電流的di/dt逐漸減小;在T3時刻,二極管電壓達到VDC,di/dt降到0,掃出電流達到最大值,即IRR;
        d.T3~T4階段,反向電流由從等離子區擴散到耗盡層的載流子維持,由于等離子的持續耗散,在空間電荷區的邊緣過量電荷濃度的梯度逐漸減小,導致T3后的反向電流將減小。由于負di/dt的存在,二極管上的反向電壓將會出現超調,當電流降為0時,反向電壓將會達到最大值。T4之后,回路進入了RLC自由振蕩階段。
        反向恢復中的di/dt分析
        二極管
        圖3 反向恢復仿真電路
        由于di/dt直接影響了反向恢復電流IRR的大小,因此分析di/dt的變化對實際應用將會很有意義。為分析影響di/dt大小的因素,設計了圖3所示的電路。其中U2為被測器件,U1為開關管,為電感提供電流以及為U2提供反向電壓,L1為線路的寄生電感,L2為負載電感,用來提供正向電流IF。
        電路工作過程如下,當U1導通時,電感L2的電流上升,其峰值電流為mosfetshi1.jpg,當U1關斷時,L2的電流經U2的體二極管續流,此電流即為二極管的正向導通電流IF。當U1再次打開時,VDC通過L1、U1施加正向電壓于U2的體二極管,使其進入反向恢復階段。
        1 T2時刻之前的di/dt分析
        在T2時刻之前,U2的體二極管反向導通電阻很小,可以忽略不計,因此根據回路的KVL方程可得
        二極管  (1)
        由式(1)可知,di/dt由三個因素決定,即VDC,VDS(U1),L1。VDC越高,VDS(U1)、L1越小,di/dt就越大。下面通過三個試驗來研究di/dt的變化情況。
        試驗1:改變寄生電感
        由于回路的寄生電感L1改變比較困難,所以通過仿真的方法來驗證di/dt的變化情況。圖4為L1為不同電感值的仿真結果,可以看到,電感值越小,di/dt越大,反向恢復電流IRR也越大。
        二極管
        圖4 不同L1的反向恢復仿真波形
        試驗2:改變U1的開通速度
        通過控制U1的柵極電容C1來改變U1的開通速度同樣也可以改變電流變化率di/dt,這是因為U1的開關速度改變了VDS(U1)的變化率。圖5為改變柵極電容的實際測試結果,可以看到隨著Cgs的減小,U1的開通速度變快,di/dt變大,反向恢復電流IRR也會變大。但U1的開關速度對di/dt的影響是有限的,因為VDS(U1)對di/dt的影響僅僅是在U1的開通期間(即di/dt變化的初期),當U1完全開通后,di/dt僅由回路的寄生電感L1決定。
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