MOSFET或場(chǎng)效應(yīng)晶體管是一種三端器件，它使用電場(chǎng)來(lái)控制流過(guò)器件的電流 - 它還具有高輸入阻抗，這在許多電路中都很有用。
場(chǎng)效應(yīng)晶體管MOSFET是電子工業(yè)的關(guān)鍵有源器件。
在許多電路中使用的MOSFET由分立元件構(gòu)成，從RF技術(shù)到功率控制和切換到一般放大。
然而，場(chǎng)效應(yīng)晶體管的主要用途是MOSFET在集成電路內(nèi)。在這種應(yīng)用中，F(xiàn)ET電路僅能消耗非常小的功率，這使得巨大的超大規(guī)模集成電路能夠工作。如果使用雙極技術(shù)，則功耗將高出幾個(gè)數(shù)量級(jí)，并且產(chǎn)生的功率太大而無(wú)法容納在單個(gè)集成電路中。
一系列場(chǎng)效應(yīng)晶體管--2N7000 N溝道MOSFET
典型的場(chǎng)效應(yīng)晶體管圖
場(chǎng)效應(yīng)晶體管，MOSFET歷史
在第一批FET進(jìn)入市場(chǎng)之前，這個(gè)概念已經(jīng)知道了很多年。在實(shí)現(xiàn)設(shè)備并使其工作方面存在許多困難。
Lilienfield在1926年的一篇論文和Heil在1935年的另一篇論文中概述了場(chǎng)效應(yīng)晶體管的一些早期概念。
20世紀(jì)40年代，貝爾實(shí)驗(yàn)室成立了下一個(gè)基金會(huì)，在那里建立了半導(dǎo)體研究小組。該小組研究了許多與半導(dǎo)體和半導(dǎo)體技術(shù)有關(guān)的領(lǐng)域，其中一個(gè)領(lǐng)域是調(diào)制半導(dǎo)體通道中流動(dòng)的電流的裝置。
在這些早期實(shí)驗(yàn)中，研究人員無(wú)法使這個(gè)想法發(fā)揮作用，將他們的想法轉(zhuǎn)變?yōu)榱硪环N想法，最終發(fā)明了另一種形式的半導(dǎo)體電子元件：雙極晶體管。
在此之后，大部分半導(dǎo)體研究都集中在改進(jìn)雙極晶體管上，并且在一段時(shí)間內(nèi)沒(méi)有對(duì)場(chǎng)效應(yīng)晶體管的想法進(jìn)行全面研究。現(xiàn)在MOSFET被廣泛使用，在許多集成電路中提供主要的有源元件。沒(méi)有它們，電子技術(shù)將與現(xiàn)在的技術(shù)截然不同。
場(chǎng)效應(yīng)晶體管 - 基礎(chǔ)知識(shí)
場(chǎng)效應(yīng)晶體管的概念基于這樣的概念：附近物體上的電荷可以吸引半導(dǎo)體通道內(nèi)的電荷。它基本上使用電場(chǎng)效應(yīng) - 因此得名。
MOSFET由半導(dǎo)體溝道組成，其兩端的電極稱為漏極和源極。
稱為柵極的控制電極放置在非常靠近通道的位置，使得其電荷能夠影響通道。
以這種方式，MOSFET的柵極控制從源極流到漏極的載流子（電子或空穴）的流動(dòng)。它通過(guò)控制導(dǎo)電通道的尺寸和形狀來(lái)實(shí)現(xiàn)。
發(fā)生電流的半導(dǎo)體通道可以是P型或N型。這產(chǎn)生了兩種類型或類別的MOSFET，稱為P溝道和N溝道MOSFET。
除此之外，還有兩個(gè)類別。增加?xùn)艠O上的電壓可以耗盡或增加通道中可用的電荷載流子的數(shù)量。結(jié)果，存在增強(qiáng)型FET和耗盡型FET。
結(jié)MOSFET電路符號(hào)圖
因?yàn)橹挥须妶?chǎng)控制在通道中流動(dòng)的電流，所以該裝置被稱為電壓操作，并且它具有高輸入阻抗，通常是許多兆歐。與電流操作的雙極晶體管相比，這可以是明顯的優(yōu)勢(shì)，并且具有低得多的輸入阻抗。
結(jié)FET在飽和狀態(tài)下工作圖
MOSFET電路
場(chǎng)效應(yīng)晶體管廣泛用于所有形式的電路中，從用于具有分立元件的電路到用于集成電路的電路中。
關(guān)于場(chǎng)效應(yīng)晶體管電路設(shè)計(jì)的注意事項(xiàng)：
場(chǎng)晶體管晶體管可以用在許多類型的電路中，盡管三種基本配置是公共源極，公共漏極（源極跟隨器）和公共柵極。電路設(shè)計(jì)本身如果相當(dāng)簡(jiǎn)單，可以很容易地進(jìn)行。
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